PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品應用：該電爐采用紅外燈管加熱，通過(guò)滑動(dòng)爐體實(shí)現快速降溫。應用于半導體或太陽(yáng)能電池基片退火。也可用于快速熱退火、快速熱氧化、快速熱氮化、硅化物合金退火、電極合金化、氧化物生長(cháng)、離子注入后退火、薄膜沉積等工藝試驗 。

操作便捷性：抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結構。簡(jiǎn)化安裝過(guò)程，只需用卡箍便可完成連接，方便操作 。

真空快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節省時(shí)間，滑動(dòng)法蘭使裝卸樣品過(guò)程簡(jiǎn)化，方便操作，可快速得到實(shí)驗結果，取消了反復的法蘭安裝過(guò)程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn)，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外，現在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。