談?wù)凜VD系統的組成與特點(diǎn)

　　CVD系統設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn)，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外，現在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域

　　實(shí)驗機理：CVD成長(cháng)系統是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應，從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統

　　CVD系統產(chǎn)品的特點(diǎn)：

　　1 CVD系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(cháng)模式

　　2 CVD系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(cháng)

　　3 CVD系統使用計算機控制，可以設置多種生長(cháng)參數

　　4 CVD系統可以制備高質(zhì)量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數厘米，研究動(dòng)力學(xué)過(guò)程

　　5 CVD系統沉積效率高;薄膜的成分可控，配比范圍大;厚度范圍廣，由幾百埃至數毫米，可以實(shí)現厚膜沉積且能大量生產(chǎn)